French - English translation in context

Différentes techniques de dépôt sont utilisées, notamment dépôt chimique en phase vapeur, dépôt par laser pulsé et dépôt de couche atomique.

Various deposition techniques are employed including chemical vapor deposition, pulsed laser deposition and atomic layer deposition.

electronics and electrical engineering - wipo.int
Celle-ci peut être formée par dépôt chimique en phase vapeur de couches atomiques, par dépôt physique en phase vapeur, par dépôt chimique en phase vapeur à partir de composés organométalliques ou par dépôt par laser pulsé.

The dielectric layer can be formed by atomic layer chemical vapor deposition, physical vapor deposition, organometallic chemical vapor deposition or pulsed laser deposition.

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Cette dernière (32, 38) peut être obtenue par dépôt chimique en phase vapeur de couche atomique, par dépôt physique en phase gazeuse, par dépôt chimique en phase vapeur organométallique ou par dépôt à laser à impulsions.

The dielectric layer (32, 38) can be formed by atomic layer chemical vapor deposition, physical vapor deposition, organometallic chemical vapor deposition or pulsed laser deposition.

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Le dépôt peut comprendre le dépôt de couche atomique, le dépôt chimique en phase vapeur, le MOCVD, l'épitaxie par faisceau moléculaire, le dépôt par évaporation, pulvérisation ou laser pulsé.

The deposition is can include atomic layer deposition, chemical vapor deposition, MOCVD, molecular beam epitaxy, evaporation, sputtering, or pulsed-laser deposition.

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Le dépôt de matériau peut être effectué par dépôt physique ou par dépôt chimique en phase vapeur, dont la pulvérisation en radiofréquence et des techniques analogues.

Deposition of materials can be by physical or chemical vapor deposition, including RF sputtering and similar techniques.

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La technique de dépôt non directionnelle peut être une technique de dépôt chimique en phase vapeur par dépôt chimique en phase vapeur à une seule source.

The non directional deposition technique can comprise chemical vapour deposition via single source chemical vapour deposition.

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Les deux couches sont formées par dépôt, au moyen d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (procédé CVD) à faibles taux de dépôt.

Both layers are deposited using chemical vapor deposition (CVD) employing low deposition rates.

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La présente invention concerne des procédés et des appareils de dépôt qui peuvent être utilisés lors d'un dépôt en couches atomiques ou d'un dépôt chimique en phase vapeur.

The invention includes deposition methods and apparatuses which can be utilized during atomic layer deposition or chemical vapor deposition.

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Les précurseurs sont utiles dans des procédés de dépôt chimique en phase, tel que le dépôt de couche atomique (ALD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

The precursors are useful in chemical phase deposition processes, such as atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD).

chemistry - wipo.int
En particulier, un dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma est utilisé pour le dépôt.

In particular, plasma-enhanced chemical vapor deposition is used for the deposition.

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