English - French technical dictionary

sputtering
pulvérisation
mechanical engineering / natural and applied sciences - techdico acta.es
The sputtering can be magnetron sputtering.

La pulvérisation peut être une pulvérisation à magnétron.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
The invention includes a sputtering component comprising a sputtering surface.

L'invention concerne un élément de pulvérisation comprenant une surface de pulvérisation.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
Sputtering targets and methods of making sputtering targets are described.

L'invention concerne des cibles de pulvérisation et des procédés servant à fabriquer des cibles de pulvérisation.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
Improved sputtering chambers (100,200) for sputtering thin coatings onto substrates.

L'invention concerne des chambres de pulvérisation améliorées servant à pulvériser des revêtements minces sur des substrats.

electronics and electrical engineering - wipo.int
The sputtering target is sliced with a plane parallel to a sputtering face to thereby expose multiple sputtering faces.

La cible de pulvérisation est découpée en tranches selon un plan parallèle à une face de pulvérisation afin d'exposer ainsi de multiples faces de pulvérisation.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
sputtering
crépitement
mechanical engineering - techdico
sputtering
érosion superficielle
natural and applied sciences - iate.europa.eu
sputtering
pulvérisation par bombardement ionique
electronics and electrical engineering - iate.europa.eu

English - French translation in context

The anti-sputtering baffle has excellent anti-sputtering effect.

Le déflecteur anti-projections possède un excellent effet anti-projections.

mechanical engineering - wipo.int
Described is a method of making a heat treated sputtering target and a sputtering target assembly with a precipitation hardened backing plate diffusion hardened to a sputtering target.

L'invention concerne un cathéter chauffant (5) utilisé au cours d'une ablation cryochirurgicale de la prostate.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
A pulsed mode sputtering method and system for sputtering a material from a target onto a substrate in a sputtering deposition process to create thin films.

Cette invention porte sur un procédé de pulvérisation en mode pulsé et sur un système d'obtention de films minces consistant à pulvériser à partir d'une cible une matière sur un substrat grâce à un procédé de dépôt par pulvérisation.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
A sputtering film forming apparatus comprises a sputtering gas supply pipe (102) supplying inert gases and a sputtering power source (103).

Un appareil de formation de film par pulvérisation cathodique comprend un tuyau d'alimentation en gaz par pulvérisation cathodique (102) alimentant des gaz inertes et une source d'alimentation de pulvérisation cathodique (103).

natural and applied sciences - wipo.int
A gradually-guiding anti-sputtering baffle has an anti-sputtering steel plate (1) whose anti-sputtering surface is fixed with a guide groove (3).

Selon l'invention, ce déflecteur comporte une tôle d'acier anti-projections (1) dont la surface anti-projections est fixée au moyen d'une gorge de guidage (3).

mechanical engineering - wipo.int
The partially refurbished sputtering targets may be sputtered after the partial refurbishment without substantive changes in sputtering properties (e.g., sputtering rate) and/or properties of the sputtered films.

Les cibles de pulvérisation partiellement remises à neuf peuvent être pulvérisées après une remise à neuf partielle sans changements importants des propriétés de pulvérisation (par exemple, taux de pulvérisation) et/ou des propriétés des films pulvérisés.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
A magnetron sputtering device including the magnetron and a method for magnetron sputtering using the magnetron sputtering device are also provided.

L'invention porte également sur un dispositif de pulvérisation cathodique magnétron comprenant le magnétron et sur un procédé pour la pulvérisation cathodique magnétron utilisant le dispositif de pulvérisation cathodique magnétron.

iron, steel and other metal industries - wipo.int
A conductive film is formed on a predetermined substrate by sputtering using this sputtering target.

Cette cible de pulvérisation est ensuite utilisée pour former par pulvérisation une couche mince conductrice sur un substrat prédéterminé.

iron, steel and other metal industries - wipo.int


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